半導体製造装置メーカー・株式会社ディスコ(本社:東京都大田区、社長:関家一馬)は、加工プロセスに応じて複数の装置を連結し、ウェーハ搬送の効率化やウェーハ破損リスク低減などを実現するクラスターシステム※1「MUSUBI」と、本システムに対応したグラインダ/ポリッシャ「DMG8762」、ドライエッチャ「DME8061」、ウェーハマウンタ「DMM9200」を開発しました。これら3機種をMUSUBIにより連結し、SEMICON Japan 2019(12/11-13 東京ビッグサイト)に展示いたします。
※1 クラスターシステム:主に半導体製造・前工程にて採用されている装置構成。複数のプロセスチャンバーを持ち、一つの工程ごとにウェーハをカセットに収納するのではなく、全ての工程での加工後にカセットに収納する方式です。これを後工程向けに応用・開発し、クラスターシステム「MUSUBI」と命名しました。
近年、モバイル機器の普及に伴いクラウドサーバーの大容量化が求められるなど、NANDフラッシュメモリやDRAMの需要が増加しています。これらのメモリ容量を増やすために、薄化したチップを積層する方法が主に用いられており、その製造現場では、裏面研削後にチップ化する従来型プロセスに加え、DBG※2やSDBG※3など、多様な製造プロセスの採用が進んでいます。今後、5GやIoTの進展により、さらなる薄化需要の増加が見込まれるとともに、多様なプロセスへの拡張性や、生産性の向上などが求められています。これらの要求に応えるため、新しい搬送方式を採用したクラスターシステム「MUSUBI」を開発しました。
※2 DBG:Dicing Before Grindingの略。先にウェーハに切り込みを入れた後、裏面研削することによりチップ分割する加工方法
※3 SDBG:Stealth Dicing Before Grindingの略。レーザをワーク内部に集光し、改質層を形成するステルスダイシング後に裏面研削を行いチップ分割する加工方法
※4 UPH:Units Per Hour(枚/時間)の略。当社推奨条件にてミラーウェーハ加工時の1時間当たりの処理枚数。
ウェーハの薄化研削は、パターン面を保護するバックグラインドテープ(BGテープ)の貼付後に行います。薄くなったウェーハはハンドリングが困難であるため、ダイシングフレームにダイシングテープで固定した後、BGテープを剥がしフレームごと搬送します。ウェーハマウンタDMM9200は、このテープ貼り換え作業を自動で行う装置です。
SEMICON Japan 2019出展 | 12/11-13、東京ビッグサイト |
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テストカット | 受け付け中 |
販売 | MUSUBI/ DMG8762/ DMM9200 販売中 DME8061 2020年8月~ |
※ 装置名称の変更にともない、本リリース上の表記を修正しました(2020年12月7日)
株式会社ディスコ 広報室