半導体ウェーハの結晶方位を示すノッチ(notch)やオリフラ(orientation flat)に代わる新しい結晶方位の認識手法です。 ウェーハ外周への切欠き加工を無くし、ウェーハ端部へ結晶面に直交する平坦面(ミラー面)を形成することを特徴とします。