DGP8761是全球销售业绩突出的DGP8760的改良机型。通过背面研削到去除应力的一体化,可以稳定地实施厚度在25 μm以下的薄型化加工。搭载了新开发的主轴,适用于高速研削加工,有助于缩短薄型晶圆的加工时间(于DGP8760相比较)。另外,优化了搬运部机构的布局,缩短了加工以外的作业時間。
作为薄晶圆加工的第3主轴可以有以下选择。
应力释放(Stress Relief)
超精密研削加工(特殊选项)
※外质吸杂:是在Si晶圆内由研削而形成微细的变质层(吸杂区域), 在该吸杂区域内可以捕获/固定重金属等杂质的技术
Gettering DP
采用干式抛光,兼顾高抗弯强度和维持外质吸杂效果的迪思科独有的解决方案。
研磨轮「UltraPoligrind」
采用微细磨粒「UltraPoligrind」,无需使用化学药物即可进行薄型晶圆加工。既可维持由于研削产生的外质吸杂效果,又可够获得以往研磨轮所无法得到的高抗弯强度。
与多功能晶圆贴膜机「DFM2800」联机使用,可一次性完成薄型晶圆DAF薄膜(Die Attach Film)贴膜作业。并且可对应DBG(Dicing Before Grinding)工艺(特殊选项)。
DGP8761的研磨轮、磨轮修整板等与现有8000系列机型具有互换性。另外,该机型的操作方法及GUI(Graphical User Interface)的画面构成方面也与现有机型具有大量共通性。
Specification | Unit | ||
---|---|---|---|
Supported workpiece size | mm | Φ300(Φ200 / Φ300) | |
Grinding Method (Z1/Z2 axis) | - | In-feed grinding with wafer rotation | |
Grinding Method (Z3 axis) | - | Anomalous in-feed grinding with wafer rotation | |
Grinding Wheels | - | Φ300 mm Diamond wheel (grinding-axis) Φ450 mm Dry polishing pad (DP-axis) Φ450 mm CMP pad (CMP-axis) |
|
Equipment dimensions (W×D×H) | mm | 1,690 × 3,315 × 1,800 (open cassette) 1,690 × 3,452 × 1,800 (FOUP) |
|
Equipment weight | kg | Approx. 6,700(DP, Poligrind) Approx. 6,900 (CMP) |
※为了改善,机器的外观,特征,规格等本公司可能在未预先通知用户的情况下实施变更。
※使用时,请先确认标准规格书。
Machine type |
Spindle |
C/T |
Machine dimentions(W × D × H) |
Machine weight(kg) |