カセット to カセットでCMP加工が完了するフルオートマチック仕様です。洗浄ステーションを備えており、加工後のウェーハ洗浄・乾燥も自動でおこないます。
サファイア、SiC、LT、LNなどのCMPに対応しています。
ウェーハ単体、サブストレート搬送、フレーム搬送に対応可能です。
仕様 | 単位 | ||
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研磨可能ウェーハ径 | - | Φ8 inch | |
加工方式 | - | CMP | |
使用ホール | - | Φ300 mm CMPパッド | |
スピンドル | 定格出力 | kW | 7.5 | 回転数範囲 | min‐1 | 500 ~ 2,000 |
装置寸法(W × D × H) | mm | 900 x 2,584 x 2,000 | |
装置質量 | kg | 約3,100 |
※ ご使用にあたっては、あらかじめ標準仕様書をご確認下さい。
※ 各事項、および仕様は改良のため、断りなく変更することがあります。
ご質問・ご相談等ございましたら、お気軽にお問い合わせ下さい。