实现对隐形切割加工后内部形成改质层的晶片和粘有DAF的芯片进行稳定的分割。
通过采用新开发的扩片单元以及工件反转机构,实现高产能的同时,提高了Device的可靠度。
通过将工件反转后的搬运/加工/清洗,减少了碎屑的附着。以此提高Device的信赖度和良率。
以往机型需要在本体的周围设置复数的配套机械,通过将配套机械的内置化,实现了空间的节省。
规格 | 单位 | ||
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最大工件尺寸 | mm | Φ300 (只对应Φ12inch Tape Frame) |
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扩片机台 | 温度设定范围 | ℃ | -2~30℃(可変) |
最大扩片上顶量 | mm | 30 | |
扩片上顶量 设定范围 | mm | 0 ~30 (Step 0.001) | |
最大扩片上顶速度 | mm/s | 400 | |
扩片上顶速度 设定范围 | mm/s | 0.001 ~ 400 (step 0.001) | |
温风、温度设定范围 | ℃ | 150~250℃(可変) | |
温风、流量设定范围 | L/mm | 0~30(可変) | |
设备尺寸 (W×D×H) | mm | 1,300 × 1,800 × 1,800 | |
设备重量 | kg | 约1,126 |
※为了改善,机器的外观,特征,规格等本公司可能在未预先通知用户的情况下实施变更。
※使用时,请先确认标准规格书。