加工対象:シリコンウェーハ、他
新技術の採用により、ZH05ブレード強度を向上。高速加工・厚ウェーハ・ストリート上に金属の多いウェーハなどの高負荷な条件下でもブレードの斜め切れを最小限に抑え、安定した加工結果が期待できます。また、低誘電率(Low-k)膜ウェーハの加工において、レーザグルービングとの組合せにより、表面チッピング・膜剥がれ無しに高速切断が可能です。
ZHRFシリーズは、従来品に比べてブレード強度を向上させているため、高負荷な加工でも斜め切れを抑制し安定した加工が可能となりました。
従来品と比較し、ZHRFシリーズは、強度が向上していることが分かります。
Workpiece | Si + Cu layer 2 µm |
Depth | 200 µm (half cut) |
Speed | 150 mm/s |
Blade | ZHRF-SD2000-N1-110 BB ZH05-SD2000-N1-110 BB |
測定位置
ZHRFシリーズは、斜め切れだけでなく、高負荷や高回転数条件下での蛇行も抑え、安定した加工が可能となりました。
Workpiece | Si |
Depth | 400 µm (half cut) |
Speed | 80 mm/s |
Spindle revolution | 55000 min-1 |
Blade | ZHRF-SD2000-N1-110 FD ZH05-SD2000-N1-110 FD |
※ この評価は、意図的に蛇行が発生しやすい条件下で行っています。
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