加工對象: Silicon wafer, etc
透過採用新技術,提升了ZH05刀片的強度。即使在高速加工、厚度較厚的晶圓,以及切割道上金屬分布較多的晶圓實施切割加工等高負荷狀態下,也能夠將切割刀片的斜切控制在最小範圍內,從而獲得穩定的加工品質。 另外,在低介電常數(Low-k)膜晶圓加工上,透過與雷射開槽搭配,可在不發生表面崩缺及表層剝離等狀況下,實現高速切斷。
與以往產品相較, ZHRF系列提高了切割刀片的強度, 即使在高負荷條件下,也能抑制切割刀片的斜切,獲得穩定的加工品質。
與以往產品相較, ZHRF系列的強度得到了明顯的提高。
Workpiece | Si + Cu layer 2 µm |
Depth | 200 µm (half cut) |
Speed | 150 mm/s |
Blade | ZHRF-SD2000-N1-110 BB ZH05-SD2000-N1-110 BB |
量測位置
ZHRF系列不僅可以抑制斜切,而且即使在高負荷,高轉速條件下,也能夠抑制蛇形切割從而獲得穩定的加工品質。
Workpiece | Si |
Depth | 400 µm (half cut) |
Speed | 80 mm/s |
Spindle revolution | 55000 min-1 |
Blade | ZHRF-SD2000-N1-110 FD ZH05-SD2000-N1-110 FD |
*此評估是利用容易發生蛇行的參數條件所做的測試
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